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性能与能效改进情况

时间:2022-04-29 15:27:01 | 来源:行业动态

时间:2022-04-29 15:27:01 来源:行业动态

来源:三星;台积电(与原有节点的原始版本比较)

各大晶圆代工厂此前在没有EUV的情况下进行过7纳米制程生产,但随后决定采用这一新技术减少光刻步骤量进而提高产能。而对于5纳米制程而言,代工厂在使用EUV的情况下一般只需要10到12轮光刻操作;但如果继续沿用旧有技术,那么可能需要30个甚至更多操作步骤。

由于包含这些图案的光掩模非常昂贵,因此每一台光刻机本身都代表着一项价值超过1亿美元的投资。VLSI Research的G. Dan Hutcheson表示,EUV的每层成本更高。但由于每块晶圆都将在EUV技术的帮助下带来更高净收入,因此EUV无疑将成为未来一切制程工艺的核心。

关键词:改进,情况,性能

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